光学系统开发及製造分析之领导工具,可协助提昇整个设计至製造流程之生產力与效率,迅速完成成像系统之开发设计与公差分析等。在全球被广泛运用於各种相关领域,如:照相设备、摄影机、医疗设备、航太系统等。
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除具有技术领先的优势外,CODE V具高度设计弹性及简单易学的操作介面也是其特点。此外,强大优化能力、庞大光学元件资料库、优越的互动式公差分析功能、干涉图介面、特殊系统之非序列性表面建模、强大的指令语言以及丰富的显示/分析图表等特点,皆能协助设计者快速进行照相镜头、显微物镜、光谱仪器、空间光学系统、光电子系统、雷射扫瞄系统、全像系统、红外成像系统、紫外光刻系统、光通讯系统等產品之设计及製造分析。
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